





多晶硅電阻膜的準確阻值
此外,與單晶硅壓阻相比,多晶硅壓阻膜可以在不同的材料襯底上制作,如在介電體(SiO2、Si3N4)上。其制備過程與常規半導體工藝兼容,且無PN結隔離問題,因而適合更高工作溫度(t≥200℃)場合使用。在相同工作溫度下,多晶硅壓阻膜與單晶硅壓阻膜相比,可更有效地抑制溫度漂移,有利于長期穩定性的實現。多晶硅電阻膜的準確阻值可以通過光刻手段獲得。 綜上所述,多晶硅膜具有較寬的工作溫度范圍(-60~+300℃),可調的電阻率特性、可調的溫度系數、較高的應變靈敏系數及能達到準確調整阻值的特點。所以在研制微傳感器和微執行器時,利用多晶硅膜這些電學特性,有時比只用單晶硅更有價值。例如,利用機械性能優異的單晶硅制作感壓膜片,在其上覆蓋一層介質膜SiO2,再在SiO2上淀積一層多晶硅壓阻膜。這種混合結構的微型前室壓力傳感器生產廠家,發揮了單晶硅和多晶硅材料各自的優勢,其工作高溫至少可達200℃,甚至300℃;低溫為-60℃。

硅
三、硅-藍寶石 硅-藍寶石材料是通過外延生長技術將硅晶體生長在藍寶石(α-Al2O3)襯底上形成的。硅晶體可以認為是藍寶石的延伸部分,二者構成硅-藍寶石SOS晶片。藍寶石材料為絕緣體,在其上面淀積的每一個電阻,其電性能是完全獨立的。這不僅能消除因PN結泄漏而產生的漂移,還能提供很高的應變效應和高溫(≥300℃)環境下的工作穩定性。藍寶石材料的遲滯和蠕變小到可以忽略不計的程度,因而具有的重復性;藍寶石又是一種惰性材料,化學穩定性好,耐腐蝕,抗輻射能力強;藍寶石的機械強度高。 綜上所述,充分利用硅-藍寶石的特點,可以制作出具有耐高溫、耐腐蝕及抗輻射等優越性能的傳感器和電路;但要獲得精度高、的指標,還必須解決好整體結構中材料之間的熱匹配性,否則難以達到預期的目標。由于硅-藍寶石材料又脆又硬,其硬度僅次于金剛石,制作工藝技術比較復雜。

硅單芯片為襯底的SiC薄膜
五、SiC薄膜材料 SiC是另一種在特殊環境下使用的化合物半導體。它由碳原子和硅原子組成。利用離子注入摻雜技術將碳原子注入單晶硅內,便可獲得的立方體結構的SiC。隨著摻雜濃度的差異得到的晶體結構不同,可表示為β-SiC。β表示不同形態的晶體結構。用離子注入法得到的SiC材料,自身的物理、化學及電學特性優異,表現出高強度、大剛度、內部殘余應力很低、化學惰性極強、較寬的禁帶寬度(近乎硅的1-2倍)及較高的壓阻系數的特性;因此,SiC材料能在高溫下耐腐蝕、抗輻射,并具有穩定的電學性質。非常適合在高溫、惡劣環境下工作的微機電選擇使用。 由于SiC單晶體材料成本高,硬度大及加工難度大,所以硅單晶片為襯底的SiC薄膜就成為研究和使用的理想選擇。通過離子注入,化學氣相淀積(VCD)等技術,將其制在Si襯底上或者絕緣體襯底(SiCOI)上,供設計者選用。例如航空發動機、火箭、及等耐熱腔體及其表面部位的壓力測量,便可選用以絕緣體為襯底的SiC薄膜,作為感壓元件(膜片),并制成高溫壓力微傳感器,實現上述場合的壓力測量。測壓時的工作溫度可達到600℃以上。



